
MHP 工藝特征
不含镉、鉛、汞、铋、铊、砷及其他任何重金屬
低應力
適合于高複合應用
良好的潤滑性及耐磨損性能
適合焊接
穩定性好,壽命長
外觀光亮、穩定、不隨镀液周期變化
MHP 是一種先進的光亮化學镍工藝,表面光亮不隨周期性變化產生色差,用于許多電子和功能性應用上。本现有產品可保持溶液良好的穩定性及快速的電镀速率。本工藝適用于非常廣泛的電镀底材,可在其上產生均勻的镍磷合金镀層。這些底材包括:鋁合金,不鏽鋼,碳,合金鋼,銅合金等,以及一些非電導材料。
MHP 適用于有優良防腐性要求的電镀。主要包適電子工業,石油氣,印刷,由于它耐汙染性良好。
MHP 工藝提供自我調節pH工藝。MHP A和MHP M用作開缸; MHP A\ MHP B和 MHP C 用于補充(1:1:1),MHP C可以用氨水代替。
物理性質
磷含量,wt% : 8~10
熔點(共晶),℃: 880
熱膨脹系數,um/m/℃: 13~15
熱導性,cal/cm/s/℃: 0.0105
電阻,微歐姆-cm: 50~100
磁性 弱磁性
硬度
knoop 硬度kg/mm2
50g 裝載, 76.2μm镀層, 鋼
電镀後 450-520
熱處理後
4小時, 177℃ 500~550
1小時, 400℃ 850~900
耐磨性能
Taber 研磨器耐磨試驗
重量損失指數, mg/1000次循環操作
電镀後 15~18
熱處理後(1小時, 400℃) 4 ~ 8
開缸
添加物
MHP A 60 mL/L
MHP M 180 mL/L
去離子水或蒸餾水 余量
開缸
用去離子或蒸餾水徹底清洗镀槽。
在槽中加入部分去離子或蒸餾水。
邊攪拌(空氣或機械)邊加入所需量的MHP A 和 MHP M,加水至工作體積。
加熱溶液至85 ~91℃,測量溶液pH值,如有必要,用50% 稀氨水或碳酸鉀調節。通常MHP工藝在pH值較低下開缸,若電镀前未進行pH的調節,則會導致镀層模糊甚至反應不起動。
溶液操作
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溶液參數 |
典型範圍 |
最佳值 |
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溫度,℃ |
85~91 |
90 |
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pH |
4.3~5.2* |
4.6~4.9* |
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溶液負載, dm2/L |
0.61~2.45 |
1.23 |
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镍濃度, g/L |
5.2~6.0 |
5.5 |
**也可在極低負載(0.25 dm2 / L)下操作
施镀
經過適當准備後, 把工件浸入工作液中至達到所需厚度。
攪拌
水平杆攪拌或低壓空氣攪拌。攪拌程度取決于裝載量及溫度。
溫度
高溫可提高镀速,當需要镀層較厚時,建議采用低溫攪拌以防出現針孔。不工作時,不要使工作液維持在操作溫度,否則會使還原劑和穩定劑分解。不要使溫度超過91℃
過濾
建議采用連續過濾。用5微米的過濾介質。若連續過濾不可行,則工作結束後,冷卻溶液,然後,在開始第二天的工作前,用3微米的過濾介質分批過濾。
工作液性能
镀速,μm/小時, 88℃ 15~20
溶液壽命, 循環次數*
鋼 7~10
覆盖能力,μm2/L
5個金屬循環 1148.8
10個金屬循環 2212.7
* 當補充金屬濃度達到最初的5.5g/L镍, 爲一個金屬循環。
設備
適合于熱酸性化學镍溶液的設備都適用于MHP 镀液。
使用0.2~0.3mm 厚PVC襯裏的槽可防止镍沉積在不鏽鋼槽上。建議采用PP 或襯PP的槽。可用帶有過熱保護的蒸汽式TEFLON 特級線圈加熱器或316型不鏽鋼電子浸入式加熱器。建議采用低溶液水平槽。且有內置過濾器。采用低壓潔淨空氣攪拌。
采用通風排出水蒸汽和攪拌及溶液汽化產生的薄霧。薄霧中可能含有镍鹽。不工作時,工作液應盖上盖子,並使之在操作溫度或接近操作溫度。
廢物處理
MHP工作液爲酸性,含有镍。廢液排放前,應將镍從溶液中除掉,並調節pH值在限定範圍內。確保排放的廢液中pH及镍含量符合當地規定。
聲明
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